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[新品] 半導(dǎo)體刻蝕設(shè)備(surpass)
Surpass系列 干法刻蝕機,特別適合于大口徑、高均勻性和有特殊微納結(jié)構(gòu)的基片刻蝕,***大刻蝕尺寸可達(dá)φ2500mm,通過高密度等離子體及離 ...
更新:2025-12-18
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真空鍍膜機(Research)
該設(shè)備為電阻、電子束或電阻電子束復(fù)合鍍膜系統(tǒng),同時兼容IBE等離子刻蝕和在線輔助鍍膜,過流部件均采用SUS304制造,真空系統(tǒng)后置,標(biāo) ...
更新:2025-12-18
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[新品] 真空快速升溫爐(Research)
Research系列真空熱處理爐滿足客戶特定需求,用于功能材料釬焊、膜層制備、真空退火、真空回火、真空熱處理、晶界擴散、其他有機材料熱 ...
更新:2025-12-18
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IBE等離子刻蝕設(shè)備
反應(yīng)離子刻蝕機主要用于介質(zhì)薄膜干法刻蝕,包括SiO2、Si3N4、SiON、SiC等。
更新:2025-12-18
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