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反應(yīng)離子刻蝕機(jī)主要用于介質(zhì)薄膜干法刻蝕，包括SiO2、Si3N4、SiON、SiC等。
產(chǎn)品詳情
1.氣體種類(lèi)：O2、CF4、CHF3、SF6、BCl3等
2.基片尺寸：zui大支持8英寸，并向下兼容6、5、4、3、2英寸等以及破片
3.射頻電源 ICP電源：13.56MHz，1400W; 偏壓電源：13.56MHz，800W
4.工藝溫度：10℃到80℃可控
5.傳送模式：自動(dòng)Loadlock傳送系統(tǒng)
支持定制研發(fā)生產(chǎn)，詳情請(qǐng)咨詢(xún)。
浙公網(wǎng)安備 33010602000811號(hào)
供應(yīng)商參考報(bào)價(jià)：面議
太陽(yáng)能光伏：
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