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憑借來自世界各地技術專家的努力，理想能源在短短一年的時 間內就研發(fā)出在玻璃基板上沉積透明導電氧化物膜(Transparent Conductive Oxide, TCO)的低壓化學氣相沉積設備（LPCVD）。該設備已有八臺用在硅基薄膜太陽電池生產線 上沉積電池的前后導電層。實際的生產數(shù)據(jù)表明：該設備開機率達90%以上，產品良率達 98%。該設備代表了此類技術的世界先進水平，在2011年獲上海浦東科技進步獎，2012年 獲上海科學技術獎。
浙公網安備 33010602000811號
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